PTA Serbuk Asid Terephthalic Pureadalah sebatian organik pepejal yang disucikan dari asid terephthalic. Struktur kimianya terdiri daripada cincin benzena dan kumpulan karboksil simetri. Bahan kristal putih ini stabil pada suhu bilik dan tekanan dan mempamerkan keasidan yang lemah. Kumpulan fungsian karboksil dalam molekulnya mudah bertindak balas dengan bahan kutub, manakala struktur cincin benzena sensitif terhadap pengoksidaan.
PTA Serbuk Asid Terephthalic Pure mempamerkan tiga ciri utama.
Bentuk fizikalnya adalah zarah bersaiz mikron seragam dengan tapak penjerapan aktif di permukaannya, menjadikannya terdedah kepada penjerapan komponen gas.
Sifat kimianya mempamerkan pengionan yang lemah, dengan atom karboksil hidrogen yang mampu mengambil bahagian dalam reaksi pertukaran proton.
Tingkah laku termodinamiknya menunjukkan kecenderungan untuk luhur secara langsung dari fasa pepejal ke fasa gas, ciri yang meningkat dengan ketara dengan peningkatan suhu.
Dari segi permohonan,PTA Serbuk Asid Terephthalic Pureterutamanya digunakan sebagai prekursor untuk sintesis poliester. Semasa pengeluaran serat poliester, serbuk mesti dicairkan ke dalam sistem homogen, di mana kesucian bahan menentukan panjang rantai polimer. Pembuatan bahan pembungkusan poliester memerlukan aliran serbuk yang stabil, jika tidak, kecacatan penyemperitan akan berlaku. Dalam tindak balas pempolimeran perindustrian, kandungan lembapan serbuk secara langsung mempengaruhi pemalar keseimbangan tindak balas esterifikasi.
Suhu ruang di manaPTA Serbuk Asid Terephthalic Puredisimpan harus dikekalkan tetap untuk mencegah turun naik suhu diurnal yang mencetuskan penghijrahan air kristal. Kelembapan relatif mesti dikawal di bawah tekanan wap tepu, dan sistem dehumidifikasi dua lapisan harus digunakan untuk mencegah penembusan molekul air. Rak harus diletakkan pada ketinggian di atas lantai untuk membolehkan peredaran udara menghilangkan kelembapan setempat sambil mengelakkan hubungan dengan dinding sejuk yang boleh menyebabkan pemeluwapan.
Gas lengai perlu diisi dalam bekas penyimpanan untuk menggantikan oksigen. Kesucian gas mesti memenuhi tahap perlindungan proses. Secara kerap memantau komposisi gas kepala, dan memulakan penggantian sekunder apabila kandungan oksigen melebihi ambang kritikal. Perlindungan cahaya dicapai melalui kegelapan gudang, dan kadar penyekatan UV mesti memenuhi piawaian perlindungan degradasi fotokimia.